【訂正公告】高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器プロセス加工

産業技術総合研究所による高性能pHEMTデバイス低雑音増幅器のプロセス加工に関する入札公告の訂正。納入期限、書類提出期限、入札受領期限、開札日時が変更された。

発注機関

国立研究開発法人産業技術総合研究所（東京都）

入札形式

一般競争入札

分類

役務 / プロセス加工

公示日

2026年6月9日(火)

参加申請期限

2026年6月17日(水)

入札締切

2026年6月30日(火)終了

開札日

2026年7月1日(水)

履行場所

茨城県つくば市東1-1-1（つくばセンター・東京本部）

履行期間

2026-11-30～2027-02-12（訂正後）

掲載元

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